Wëllkomm op eise Websäiten!

CuNiMn Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Kupfer Nickel Mangan

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie

Alloy Sputtering Zil

Chemesch Formel

CuNiMn

Zesummesetzung

Kupfer Nickel Mangan

Rengheet

99,9%, 99,95%, 99,99%

Form

Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach

Produktioun Prozess

Vakuum Schmelzen

Verfügbar Gréisst

L≤2000mm, W≤200mm


Produit Detailer

Produit Tags

Kupfer Nickel Mangan Sputtering Zil gëtt duerch Vakuum Schmelzen fabrizéiert.Et huet héich Rengheet an elektresch Konduktivitéit a konnt an der Panel Displayindustrie benotzt ginn.

Kupfer Nickel Mangan Legierung huet normalerweis Nickel Inhalt 2% ~ 44%, Mangan Inhalt 0,1% ~ 28% a Kupfer Gläichgewiicht.Mangan weist wesentlech zolidd Solubilitéit a Kupfer an ass en effektiven zolitte Léisungsverstäerkungsmëttel.Et kéint d'Eegeschafte vun der Legierung verbesseren.

Rich Special Materials spezialiséiert op d'Fabrikatioun vu Sputtering Target a konnten Kupfer Nickel Mangan Sputtering Materialien no de Spezifikatioune vun de Clienten produzéieren.Fir méi Informatiounen, weg Kontakt eis.


  • virdrun:
  • Nächste: