Dënn Filmer zéien weider d'Opmierksamkeet vun de Fuerscher un.Dësen Artikel presentéiert aktuell a méi déif Fuerschung iwwer hir Uwendungen, Variabel Oflagerungsmethoden, an zukünfteg Benotzung.
"Film" ass e relativen Begrëff fir en zweedimensional (2D) Material dat vill méi dënn ass wéi säi Substrat, egal ob et geduecht ass de Substrat ze decken oder tëscht zwou Flächen ze sandwichéieren.An aktuellen industriellen Uwendungen rangéiert d'Dicke vun dësen dënnen Filmer typesch vun sub-nanometer (nm) atomarer Dimensiounen (dh <1 nm) bis e puer Mikrometer (μm).Eenschichteg Grafen huet eng Dicke vun engem Kuelestoffatom (dh ~0,335 nm).
Filmer goufen fir dekorativ a bildlech Zwecker a prehistoreschen Zäiten benotzt.Haut ginn Luxusartikelen a Bijoue mat dënnen Filmer vun Edelmetalle wéi Bronze, Sëlwer, Gold a Platin beschichtet.
Déi heefegst Applikatioun vu Filmer ass de kierperleche Schutz vu Flächen géint Abrasioun, Impakt, Kratzer, Erosioun a Abrasiounen.Diamant-ähnlech Kuelestoff (DLC) a MoSi2 Schichten gi benotzt fir Autosmotoren vu Verschleiung an héijer Temperaturkorrosioun ze schützen, déi duerch Reibung tëscht mechanesche bewegende Deeler verursaacht gëtt.
Dënn Filmer ginn och benotzt fir reaktiv Flächen aus der Ëmwelt ze schützen, egal ob et Oxidatioun oder Hydratatioun wéinst Feuchtigkeit ass.Shielding conductive Films hu vill Opmierksamkeet an de Felder vun Hallefleitgeräter, dielektresche Filmseparatoren, Dënnfilmelektroden an elektromagnetescher Interferenz (EMI) kritt.Besonnesch Metalloxid Feldeffekt Transistoren (MOSFETs) enthalen chemesch an thermesch stabil dielektresch Filmer wéi SiO2, a komplementär Metalloxid Hallefleit (CMOS) enthalen konduktiv Kupferfilmer.
Dënn-Film Elektroden erhéijen d'Verhältnis vun der Energiedicht zum Volume vun Supercapacitors ëm e puer Mol.Zousätzlech, Metal dënn Filmer an aktuell MXenes (Iwwergank Metal Carbides, Nitrides oder carbonitrides) Perovskite Keramik dënn Filmer sinn wäit benotzt elektronesch Komponente vun elektromagnetesch Stéierungen ze schützen.
Am PVD gëtt d'Zielmaterial verdampft an an eng Vakuumkammer transferéiert, déi de Substrat enthält.D'Dampe fänken un op der Uewerfläch vum Substrat ze deposéieren einfach wéinst Kondensatioun.De Vakuum verhënnert d'Vermëschung vu Gëftstoffer a Kollisiounen tëscht Dampmoleküle a Reschtgasmoleküle.
D'Turbulenzen, déi an den Damp agefouert ginn, den Temperaturgradient, den Dampflossrate an d'latente Hëtzt vum Zilmaterial spillen eng wichteg Roll bei der Bestëmmung vun der Filmuniformitéit an der Veraarbechtungszäit.Verdampfungsmethoden enthalen resistiv Heizung, Elektronestrahlheizung a méi kierzlech molekulare Strahlepitaxie.
D'Nodeeler vu konventionelle PVD sinn hir Onméiglechkeet fir ganz héich Schmelzpunktmaterialien ze verdampen an déi strukturell Verännerungen, déi am deposéierte Material induzéiert ginn wéinst dem Verdampfungs-Kondensatiounsprozess.Magnetron Sputtering ass déi nächst Generatioun kierperlech Oflagerungstechnik déi dës Probleemer léist.Beim Magnetron-Sputtering ginn Zilmoleküle duerch Bombardement mat energesche positiven Ionen duerch e Magnéitfeld aus engem Magnetron ausgestouss (sputter).
Dënn Filmer besetzen eng speziell Plaz an modernen elektroneschen, opteschen, mechanesche, photoneschen, thermeschen a magneteschen Apparater a souguer Dekorartikelen wéinst hirer Villsäitegkeet, Kompaktheet a funktionneller Eegeschafte.PVD an CVD sinn déi meescht benotzt Dampdepositiounsmethoden fir dënn Filmer ze produzéieren, rangéiert an der Dicke vun e puer Nanometer bis e puer Mikrometer.
Déi lescht Morphologie vum deposéierte Film beaflosst seng Leeschtung an Effizienz.Wéi och ëmmer, Dënnfilmverdampfungstechniken erfuerderen weider Fuerschung fir dënn Filmeigenschaften präzis virauszesoen baséiert op verfügbare Prozessinputen, ausgewielten Zilmaterialien a Substrateigenschaften.
De globale Hallefleitmaart ass an eng spannend Period agaangen.Nofro fir Chip Technologie huet souwuel d'Entwécklung vun der Industrie gestiermt an retardéiert, an den aktuellen Chip Mangel gëtt erwaart fir eng Zäit weider.Aktuell Trends si méiglecherweis d'Zukunft vun der Industrie formen wéi dëst weider geet
Den Haaptunterschied tëscht graphene-baséiert Batterien a Solid-State Batterien ass d'Zesummesetzung vun den Elektroden.Och wann d'Kathoden dacks geännert ginn, kënnen Allotrope vu Kuelestoff och benotzt ginn fir Anoden ze maachen.
An de leschte Joeren ass den Internet vun de Saachen séier a bal all Beräicher ëmgesat ginn, awer et ass besonnesch wichteg an der Elektroautoindustrie.
Post Zäit: Apr-23-2023