Mir all wëssen datt Sputtering eng vun den Haapttechnologien ass fir Filmmaterialien ze preparéieren.Et benotzt d'Ionen, déi vun der Ionequell produzéiert ginn, fir d'Aggregatioun am Vakuum ze beschleunegen fir en Héichgeschwindeg Ionestrahl ze bilden, déi zolidd Uewerfläch ze bombardéieren, an d'Ionen austauschen kinetesch Energie mat den Atomer op der fester Uewerfläch, sou datt d'Atomer op der fester Uewerfläch. Uewerfläch verlooss de festen an deposéiert op der Substrat Uewerfläch.De bombardéierte Feststoff ass de Rohmaterial fir de Film ze deposéieren duerch Sputteren, wat Sputterziel genannt gëtt.
Verschidde Aarte vu gesputterte Filmmaterialien goufen wäit an Hallefleit-integréiert Circuiten, Opnammedien, Planar Display, Tool a Stierf Uewerflächbeschichtung a sou weider benotzt.
Sputtering Ziler ginn haaptsächlech an elektroneschen an Informatiounsindustrie benotzt, wéi integréiert Kreesleef, Informatiounsspeicher, Liquid Crystal Displays, Laser Erënnerungen, elektronesch Kontrollausrüstung, etc;Et kann och am Beräich vun der Glasbeschichtung benotzt ginn;Et kann och an zouzedrécken-resistent géint Materialien benotzt ginn, héich Temperatur corrosion Resistenz, héich-Enn dekorativen Produiten an aner Industrien.
Et gi vill Aarte vu Sputterziler, an et gi verschidde Methoden fir d'Klassifikatioun vun Ziler:
Geméiss der Zesummesetzung kann et an Metallziel, Legierungsziel a Keramikverbindungsziel opgedeelt ginn.
No der Form kann et a laang Zil, Quadrat Zil a Ronn Zil ënnerdeelt ginn.
Et kann ënnerdeelt ginn an microelectronic Zil, Magnéitfeld Opnahmen Zil, opteschen Scheif Zil, Edelmetall Zil, Film Resistenz Zil, konduktiv Film Zil, Uewerfläch Modifikatioun Zil, Mask Zil, dekorativen Layer Zil, Elektroden Zil an aner Ziler no der Applikatioun Terrain.
No verschiddenen Uwendungen, kann et an semiconductor Zesummenhang Keramik Ziler ënnerdeelt ginn, opzehuelen mëttel- Keramik Ziler, Display Keramik Ziler, superconducting Keramik Ziler a Ris magnetoresistance Keramik Ziler.
Post Zäit: Jul-29-2022