An dëser Etude ënnersicht mir Cu / Ni Nanopartikel synthetiséiert a Mikrocarbon Quellen während Co-Depositioun duerch RF Sputtering a RF-PECVD, souwéi lokaliséierter Uewerflächeplasmonresonanz fir Detektioun vu CO Gas mat Cu / Ni Nanopartikelen.Morphologie vu Partikelen.Surface Morphologie gouf studéiert andeems Dir 3D Atomkraaftmikrographen analyséiert mat Bildveraarbechtung a Fractal/Multifractal Analyse Techniken.Statistesch Analyse gouf mat MountainsMap® Premium Software mat zwee-Wee Varianzanalyse (ANOVA) a mannst bedeitend Differenztest gemaach.Surface Nanostrukturen hunn lokal a global spezifesch Verdeelung.Déi experimentell a simuléiert Rutherford Backscattering Spektre bestätegt d'Qualitéit vun den Nanopartikelen.Déi frësch preparéiert Echantillon goufen dann un engem Kuelendioxid Kamäin ausgesat an hir Notzung als Gas Sensor gouf mat der Method vun lokaliséierter Uewerfläch Plasmon Resonanz ënnersicht.D'Zousätzlech vun enger Nickelschicht uewen op der Kupferschicht huet interessant Resultater souwuel wat d'Morphologie wéi d'Gaserkennung ugeet.D'Kombinatioun vun fortgeschratt Stereo Analyse vun dënn Film Uewerfläch Topographie mat Rutherford Backscattering Spektroskopie a spektroskopesch Analyse ass eenzegaarteg an dësem Beräich.
Rapid Loftverschmotzung an de leschte Joerzéngte, besonnesch wéinst der rapider Industrialiséierung, huet d'Fuerscher opgefuerdert méi iwwer d'Wichtegkeet vun der Detektioun vu Gasen ze léieren.Metall Nanopartikelen (NPs) goufen als villverspriechend Materialien fir Gassensoren1,2,3,4 gewisen, och am Verglach mat dënnen Metallfilmer, déi fäeg sinn lokaliséierter Uewerflächeplasmonresonanz (LSPR) ze sinn, wat eng Substanz ass, déi mat staarken a staark limitéierter elektromagnetescher Resonanz resonéiert. Felder5,6,7,8.Als preiswert, niddereg-gëfteg a versatile Iwwergangsmetall gëtt Kupfer als e wichtegt Element vu Wëssenschaftler an Industrie ugesinn, besonnesch Sensorhersteller9.Op der anerer Säit Leeschtung Nickel Iwwergangsmetall Katalysatoren besser wéi aner Katalysatoren10.Déi bekannte Applikatioun vu Cu/Ni op der Nanoskala mécht se nach méi wichteg, besonnesch well hir strukturell Eegeschafte sech no der Fusioun net änneren11,12.
Wärend Metall Nanopartikelen an hir Schnëttplazen mam dielektresche Medium bedeitend Ännerunge bei lokaliséierter Uewerflächeplasmonresonanzen weisen, goufen also als Bausteng fir Gasdetektioun13 benotzt.Wann d'Absorptiounsspektrum ännert, heescht dat, datt déi dräi Faktore vun der Resonanzwellelängt an / oder der Absorptiounspeakintensitéit an / oder FWHM ëm 1, 2, 3, 4. Op nanostrukturéiert Flächen, déi direkt mat der Partikelgréisst, lokaliséierter Uewerfläch verbonne sinn Plasmonresonanz an Nanopartikelen, anstatt an dënnen Filmer, ass en effektive Faktor fir d'molekulare Absorptioun z'identifizéieren14, wéi och vum Ruiz et al.huet d'Relatioun tëscht feine Partikelen an Detektiounseffizienz gewisen15.
Wat d'optesch Detektioun vu CO-Gas ugeet, sinn e puer Kompositmaterialien wéi AuCo3O416, Au-CuO17 an Au-YSZ18 an der Literatur gemellt ginn.Mir kënnen u Gold denken als en Adelmetall aggregéiert mat Metalloxide fir Gasmoleküle chemesch op der Uewerfläch vum Komposit adsorbéiert ze entdecken, awer den Haaptproblem mat Sensoren ass hir Reaktioun bei Raumtemperatur, wat se onzougänglech mécht.
An de leschte Joerzéngte gouf Atomkraaftmikroskopie (AFM) als fortgeschratt Technik benotzt fir dreidimensional Uewerflächmikromorphologie bei héijer Nanoskala Opléisung19,20,21,22 ze charakteriséieren.Zousätzlech, Stereo, Fractal / Multifractal Analyse23,24,25,26, Power Spectral Density (PSD)27 a Minkowski28 Funktionalitéit sinn modernst Tools fir d'Uewerflächentopographie vun dënnen Filmer ze charakteriséieren.
An dëser Etude, baséiert op lokaliséierter Uewerflächeplasmonresonanz (LSPR) Absorptioun, goufen Acetylen (C2H2) Cu / Ni NP Spure bei Raumtemperatur deposéiert fir als CO-Gassensoren ze benotzen.Rutherford Backscatter Spektroskopie (RBS) gouf benotzt fir Kompositioun a Morphologie vun AFM Biller ze analyséieren, an 3D topographesch Kaarte goufen mat MountainsMap® Premium Software veraarbecht fir Uewerflächisotropie an all zousätzlech mikromorphologesch Parameter vun Uewerflächmikrotexturen ze studéieren.Op der anerer Säit ginn nei wëssenschaftlech Resultater bewisen, déi op industrielle Prozesser applizéiert kënne ginn a si vu groussen Interessi un Uwendungen fir chemesch Gasdetektioun (CO).D'Literatur bericht fir d'éischte Kéier d'Synthese, d'Charakteriséierung an d'Applikatioun vun dësem Nanopartikel.
En dënnen Film vu Cu / Ni Nanopartikel gouf duerch RF Sputtering a RF-PECVD Co-Depositioun mat enger 13,56 MHz Energieversuergung virbereet.D'Method baséiert op engem Reakter mat zwou Elektroden vu verschiddene Materialien a Gréissten.Déi méi kleng ass Metall als energesch Elektroden, an déi méi grouss ass duerch eng Edelstahlkammer op enger Distanz vu 5 cm vuneneen gegrënnt.Setzt d'SiO 2 Substrat an d'Cu Zil an d'Kammer, evakuéiert dann d'Kammer op 103 N / m 2 als Basisdrock bei Raumtemperatur, féiert Acetylengas an d'Kammer, an dréckt dann op den Ëmfelddrock.Et ginn zwee Haaptgrënn fir Acetylengas an dësem Schrëtt ze benotzen: éischtens déngt et als Trägergas fir Plasmaproduktioun, an zweetens fir d'Virbereedung vun Nanopartikelen a Spuermengen vu Kuelestoff.Den Oflagerungsprozess gouf fir 30 min bei engem initialen Gasdrock a RF Kraaft vun 3,5 N/m2 respektiv 80 W duerchgefouert.Da brécht de Vakuum an ännert d'Zil op Ni.Den Oflagerungsprozess gouf bei engem initialen Gasdrock a RF Kraaft vun 2,5 N/m2 respektiv 150 W widderholl.Schlussendlech bilden Kupfer an Néckel Nanopartikelen, déi an enger Acetylenatmosphär deposéiert sinn, Kupfer / Néckel Nanostrukturen.Gesinn Table 1 fir Prouf Virbereedung an Identifizéierer.
3D Biller vu frësch preparéierten Echantillon goufen an engem 1 μm × 1 μm Quadrat Scan Beräich opgeholl mat engem Nanometer Multimode Atomkraaftmikroskop (Digital Instruments, Santa Barbara, CA) am Net-Kontakt Modus bei enger Scannergeschwindegkeet vun 10-20 μm / min .Mat.MountainsMap® Premium Software gouf benotzt fir d'3D AFM topographesch Kaarten ze veraarbecht.Geméiss ISO 25178-2: 2012 29,30,31 gi verschidde morphologesch Parameter dokumentéiert an diskutéiert, Héicht, Kär, Volumen, Charakter, Funktioun, Raum a Kombinatioun sinn definéiert.
D'Dicke an d'Zesummesetzung vu frësch preparéierte Proben goufen op der Uerdnung vu MeV geschätzt mat héijer Energie Rutherford Backscattering Spektroskopie (RBS).Am Fall vu Gasprobing gouf LSPR Spektroskopie benotzt mat engem UV-Vis Spektrometer am Wellelängteberäich vun 350 bis 850 nm, während e representativ Probe an enger zouener Edelstahl Kuvette mat engem Duerchmiesser vu 5,2 cm an enger Héicht vun 13,8 cm war. bei enger Rengheet vun 99,9% CO Gas Flux Taux (no Arian Gas Co. IRSQ Norm, 1,6 ze 16 l / h fir 180 Sekonnen an 600 Sekonnen).Dëse Schrëtt gouf bei Raumtemperatur, Loftfiichtegkeet 19% an Dampkapp duerchgefouert.
Rutherford Backscattering Spektroskopie als Ionestreettechnik gëtt benotzt fir d'Zesummesetzung vun dënnen Filmer ze analyséieren.Dës eenzegaarteg Method erlaabt d'Quantifizéierung ouni d'Benotzung vun engem Referenzstandard.RBS Analyse moosst héich Energien (He2+ Ionen, dh Alpha-Partikel) op der Uerdnung vu MeV op der Probe an He2+ Ionen, déi an engem bestëmmte Wénkel zréckstreet.De SIMNRA Code ass nëtzlech fir riicht Linnen a Kéiren ze modelléieren, a seng Korrespondenz zu den experimentellen RBS Spektre weist d'Qualitéit vun de preparéierte Proben.De RBS Spektrum vun der Cu/Ni NP Probe gëtt an der Figur 1 gewisen, wou déi rout Linn den experimentellen RBS Spektrum ass, an déi blo Linn ass d'Simulatioun vum SIMNRA Programm, et kann gesi ginn datt déi zwee Spektrallinnen gutt sinn. Accord.En Tëschefallstrahl mat enger Energie vun 1985 keV gouf benotzt fir d'Elementer an der Probe z'identifizéieren.D'Dicke vun der ieweschter Schicht ass ongeféier 40 1E15Atom/cm2 mat 86% Ni, 0,10% O2, 0,02% C an 0,02% Fe.Fe ass verbonne mat Gëftstoffer am Ni Zil wärend der Sputtering.Peaks vum ënnerierdesche Cu an Ni si bei 1500 keV siichtbar, respektiv, an Peaks vu C an O2 bei 426 keV respektiv 582 keV.D'Na, Si a Fe Schrëtt sinn 870 keV, 983 keV, 1340 keV, respektiv 1823 keV.
Quadrat 3D topographesch AFM Biller vun Cu an Cu / Ni NP Film Fläch sinn an Lalumi gewisen.2. Zousätzlech weist d'2D Topographie, déi an all Figur presentéiert gëtt, datt d'NPs, déi op der Filmoberfläche beobachtet ginn, a Kugelgestalt koalescéieren, an dës Morphologie ass ähnlech wéi déi vu Godselahi an Armand32 an Armand et al.33 beschriwwen.Wéi och ëmmer, waren eis Cu NPs net agglomeréiert, an d'Probe mat nëmmen Cu huet eng wesentlech glatter Uewerfläch mat méi feinste Peaks gewisen wéi déi méi rau (Fig. 2a).Am Géigendeel, déi oppe Peaks op de CuNi15 an CuNi20 Echantillon hunn eng offensichtlech Kugelgestalt a méi héich Intensitéit, wéi duerch d'Héicht Verhältnis an Fig.. 2a a b gewisen.Déi scheinbar Ännerung vun der Filmmorphologie weist datt d'Uewerfläch verschidde topographesch raimlech Strukturen huet, déi vun der Néckeldepositiounszäit beaflosst sinn.
AFM Biller vun Cu (a), CuNi15 (b), an CuNi20 (c) dënn Filmer.Entspriechend 2D Kaarten, Héichtverdeelungen an Abbott Firestone Kéiren sinn an all Bild agebonnen.
D'Duerchschnëttskorngréisst vun den Nanopartikele gouf aus dem Duerchmiesserverdeelungshistogramm geschätzt, deen duerch Miessunge vun 100 Nanopartikele mat engem Gaussesche Fit gemooss gouf wéi an Fig.Et kann gesi ginn datt Cu an CuNi15 déiselwecht Duerchschnëttskorngréissten hunn (27,7 an 28,8 nm), während CuNi20 méi kleng Kären huet (23,2 nm), wat no beim Wäert vun Godselahi et al.34 (ongeféier 24 nm).Bei bimetallesche Systemer kënnen d'Spëtze vun der lokaliséierter Uewerflächeplasmonresonanz mat enger Verännerung vun der Kärgréisst35 verschwannen.An dëser Hisiicht kënne mir schléissen datt eng laang Ni Oflagerungszäit d'Uewerfläch plasmonesch Eegeschafte vu Cu / Ni dënnen Filmer vun eisem System beaflosst.
Partikelgréisst Verdeelung vun (a) Cu, (b) CuNi15, an (c) CuNi20 dënn Filmer aus AFM Topographie kritt.
Bulk Morphologie spillt och eng wichteg Roll an der raimlecher Konfiguratioun vun topographesche Strukturen an dënnen Filmer.Tabell 2 lëscht d'Héicht-baséiert topographesch Parameteren, déi mat der AFM Kaart verbonne sinn, déi duerch Zäitwäerter vu mëttlerer Rauheet (Sa), Skewness (Ssk) a Kurtosis (Sku) beschriwwe kënne ginn.D'Sa Wäerter sinn 1,12 (Cu), 3,17 (CuNi15) an 5,34 nm (CuNi20), respektiv, bestätegen datt d'Filmer méi rau ginn mat der Erhéijung vun der Ni-Oflagerungszäit.Dës Wäerter si vergläichbar mat deene virdru gemellt vun Arman et al.33 (1-4 nm), Godselahi et al.34 (1-1,05 nm) an Zelu et al.36 (1,91-6,32 nm), wou eng ähnlech sputtering war mat dëse Methoden gesuergt Filmer vun Cu /Ni NPs ze Depot.Wéi och ëmmer, Ghosh et al.37 deposéiert Cu /Ni Multilayer duerch Elektrodepositioun a bericht méi héich Rauhegkeet Wäerter, anscheinend am Beräich vun 13,8 bis 36 nm.Et sollt bemierkt datt Differenzen an der Kinetik vun der Uewerflächebildung duerch verschidde Oflagerungsmethoden zu der Bildung vu Flächen mat verschiddene raimleche Mustere féieren.Trotzdem kann et gesi ginn datt d'RF-PECVD Method effektiv ass fir Filmer vu Cu / Ni NPs mat enger Rauheet vu net méi wéi 6,32 nm ze kréien.
Wat den Héichprofil ugeet, sinn déi méi héich Uerdnungsstatistesch Momenter Ssk a Sku mat der Asymmetrie an der Normalitéit vun der Héichtverdeelung, respektiv.All Ssk Wäerter si positiv (Ssk> 0), wat e méi laange rietse Schwanz38 beweist, wat duerch d'Héichtverdeelungsplot am Inset 2 bestätegt ka ginn. Zousätzlech goufen all Héichtprofile vun engem schaarfen Peak 39 dominéiert (Sku> 3) , beweist datt d'Kurve D'Héichtverdeelung manner flaach ass wéi d'Gaussesch Klackkurve.Déi rout Linn am Héichtverdeelungsplot ass d'Abbott-Firestone 40 Curve, eng gëeegent statistesch Method fir d'normal Verdeelung vun Daten ze evaluéieren.Dës Linn gëtt aus der kumulativer Zomm iwwer den Héichthistogramm kritt, wou den héchsten Héichpunkt an déifste Trough mat hirem Minimum (0%) a Maximum (100%) Wäerter verbonne sinn.Dës Abbott-Firestone Kéiren hunn eng glat S-Form op der Y-Achs a weisen an alle Fäll eng progressiv Erhéijung vum Prozentsaz vum Material, dat iwwer d'Fläche gekräizt ass, ugefaange vum rausten an intensivsten Héichpunkt.Dëst bestätegt d'raimlech Struktur vun der Uewerfläch, déi haaptsächlech vun der Néckeldepositiounszäit beaflosst ass.
Table 3 lists déi spezifesch ISO Morphologie Parameteren verbonne mat all Uewerfläch kritt aus der AFM Biller.Et ass bekannt datt d'Gebitt-zu-Material-Verhältnis (Smr) an d'Konterfläch-zu-Materialverhältnis (Smc) Uewerflächefunktiounsparameter sinn29.Zum Beispill, eis Resultater weisen datt d'Regioun iwwer dem Medianfläch vun der Uewerfläch komplett an all Filmer (Smr = 100%).Wéi och ëmmer, d'Wäerter vum Smr ginn aus verschiddenen Héichten vum Lagergebittskoeffizient vum Terrain41 kritt, well de Parameter Smc bekannt ass.D'Behuele vu Smc gëtt erkläert duerch d'Erhéijung vun der Rauheet vu Cu → CuNi20, wou et ka gesi ginn datt den héchste Rauhwäerter kritt fir CuNi20 Smc ~ 13 nm gëtt, während de Wäert fir Cu ongeféier 8 nm ass.
Vermëschung Parameteren RMS Gradient (Sdq) an entwéckelt Interface Beräich Verhältnis (Sdr) sinn Parameteren Zesummenhang mat Textur flaachness a Komplexitéit.Vun Cu → CuNi20, variéieren d'Sdq Wäerter vu 7 bis 21, wat beweist datt déi topographesch Onregelméissegkeeten an de Filmer eropgoen wann d'Ni Schicht fir 20 min deposéiert gëtt.Et sollt bemierkt datt d'Uewerfläch vum CuNi20 net sou flaach ass wéi déi vum Cu.Ausserdeem gouf festgestallt datt de Wäert vum Parameter Sdr, verbonne mat der Komplexitéit vun der Uewerflächmikrotextur, vu Cu → CuNi20 eropgeet.Laut enger Etude vu Kamble et al.42, erhéicht d'Komplexitéit vun der Uewerflächemikrotextur mat der Erhéijung vum Sdr, wat beweist datt CuNi20 (Sdr = 945%) eng méi komplex Uewerflächmikrostruktur am Verglach zu Cu Filmer huet (Sdr = 229%)..Tatsächlech spillt d'Verännerung vun der mikroskopescher Komplexitéit vun der Textur eng Schlësselroll bei der Verdeelung an der Form vu raue Peaks, déi aus de charakteristesche Parameter vun der Peakdichte (Spd) an der arithmetescher mëttlerer Peakkrümmung (Spc) beobachtet ginn.An dëser Hisiicht erhéicht de Spd vu Cu → CuNi20, wat beweist datt d'Spëtze méi dichter organiséiert sinn mat enger Erhéijung vun der Ni Schichtdicke.Zousätzlech erhéicht de Spc och vu Cu→CuNi20, wat beweist datt d'Spëtzeform vun der Uewerfläch vun der Cu Probe méi ofgerënnt ass (Spc = 612), während déi vum CuNi20 méi schaarf ass (Spc = 925).
De raue Profil vun all Film weist och markant raimlech Muster an de Peak, Kär, an Trough Regiounen vun der Uewerfläch.D'Héicht vum Kär (Sk), Ofsenkungspeak (Spk) (iwwer dem Kär), an Trough (Svk) (ënnert dem Kär) 31,43 sinn Parameter, déi senkrecht zum Uewerflächeplang30 gemooss ginn a vun Cu → CuNi20 eropgeet wéinst der Uewerfläch Rauhegkeet bedeitend Erhéijung.Ähnlech weisen Peakmaterial (Vmp), Kärmaterial (Vmc), Trough Void (Vvv), a Kär Void Volumen (Vvc)31 dee selwechten Trend wéi all Wäerter eropgoen vun Cu → CuNi20.Dëst Verhalen weist datt d'CuNi20 Uewerfläch méi Flëssegkeet hale kann wéi aner Proben, wat positiv ass, suggeréiert datt dës Uewerfläch méi einfach ass ze verschmieren44.Dofir sollt et bemierkt ginn datt wann d'Dicke vun der Nickelschicht vu CuNi15 → CuNi20 eropgeet, d'Verännerungen am topographesche Profil hannert d'Verännerungen an de morphologesche Parameteren vun enger méi héijer Uerdnung, déi d'Uewerflächmikrotextur an d'raimlech Muster vum Film beaflossen.
Eng qualitativ Bewäertung vun der mikroskopescher Textur vun der Filmoberfläche gouf kritt andeems eng AFM topographesch Kaart mat der kommerziell MountainsMap45 Software konstruéiert gouf.D'Rendez-vous gëtt an der Figur 4 gewisen, déi eng representativ Groove an e polare Komplott mat Respekt fir d'Uewerfläch weist.Dësch 4 Lëscht vun Plaze an Plaz Optiounen.D'Biller vun de Rillen weisen datt d'Probe vun engem ähnleche System vu Kanäl mat enger ausgeprägter Homogenitéit vun de Rillen dominéiert gëtt.Wéi och ëmmer, d'Parameter fir déi maximal Groove Déift (MDF) an Moyenne Groove Déift (MDEF) Erhéijung vun Cu zu CuNi20, confirméiert virdrun Observatioune iwwert d'lubricity Potential vun CuNi20.Et sollt bemierkt datt d'Cu (Fig. 4a) an CuNi15 (Fig. 4b) Proben praktesch déiselwecht Faarfskalen hunn, wat beweist datt d'Mikrotextur vun der Cu-Filmuewerfläch keng wesentlech Verännerungen erliewen nodeems den Ni-Film fir 15 deposéiert gouf. min.Am Géigesaz, weist d'CuNi20 Probe (Fig. 4c) Falten mat verschiddene Faarfskalen, wat mat senge méi héije MDF- a MDEF-Wäerter verbonnen ass.
Grooves an Uewerfläch Isotropie vun microtextures vun Cu (a), CuNi15 (b), an CuNi20 (c) Filmer.
D'Polardiagramm an der Fig.4 weist och datt d'Uewerflächmikrotextur anescht ass.Et ass bemierkenswäert datt d'Depositioun vun enger Ni Schicht d'raimlech Muster wesentlech ännert.D'berechent microtextural Isotropie vun de Echantillon war 48% (Cu), 80% (CuNi15), an 81% (CuNi20).Et kann gesi ginn datt d'Oflagerung vun der Ni Schicht zu der Bildung vun enger méi isotropescher Mikrotextur bäidréit, während den eenzegen Schicht Cu Film eng méi anisotropesch Uewerflächmikrotextur huet.Zousätzlech sinn déi dominant raimlech Frequenze vu CuNi15 a CuNi20 méi niddereg wéinst hirer grousser Autokorrelatiounslängt (Sal)44 am Verglach mat Cu Proben.Dëst ass och kombinéiert mat der ähnlecher Kornorientéierung, déi vun dëse Proben ausgestallt gëtt (Std = 2,5 ° an Std = 3,5 °), wärend e ganz grousse Wäert fir d'Cu Probe opgeholl gouf (Std = 121 °).Baséierend op dëse Resultater, weisen all Filmer laang-Gamme raimlech Variatiounen wéinst verschiddene Morphologie, topographesch Profiler, an roughness.Also beweisen dës Resultater datt d'Ni Schicht Oflagerungszäit eng wichteg Roll bei der Bildung vu CuNi bimetallesche Sputterflächen spillt.
Fir d'LSPR Verhalen vu Cu / Ni NPs an der Loft bei Raumtemperatur a bei verschiddene CO-Gasfluxen ze studéieren, goufen UV-Vis Absorptiounsspektre an der Wellelängtberäich vun 350-800 nm applizéiert, wéi an der Figur 5 fir CuNi15 a CuNi20.Duerch d'Aféierung vu verschiddene CO-Gasstroumdensitéiten gëtt den effektiven LSPR CuNi15 Peak méi breed, d'Absorptioun gëtt méi staark, an de Peak wäert sech (Routverschiebung) op méi héich Wellelängten veränneren, vu 597,5 nm am Loftfloss op 16 L / h 606,0 nm.CO-Flux 180 Sekonnen, 606,5 nm, CO Flow 16 l/h 600 Sekonnen.Op der anerer Säit weist CuNi20 en anert Verhalen, sou datt eng Erhéijung vum CO-Gasfluss zu enger Ofsenkung vun der LSPR Peakwellelängt Positioun (Blueshift) vu 600,0 nm bei Loftfloss op 589,5 nm bei 16 l/h CO Flux fir 180 s resultéiert .16 l/h CO-Flux fir 600 Sekonnen bei 589,1 nm.Wéi mat CuNi15 kënne mir e méi breede Peak a verstäerkter Absorptiounsintensitéit fir CuNi20 gesinn.Et kann geschat ginn datt mat enger Erhéijung vun der Dicke vun der Ni Schicht op Cu, wéi och mat enger Erhéijung vun der Gréisst an der Zuel vun CuNi20 Nanopartikelen amplaz CuNi15, Cu an Ni Partikelen sech openee kommen, d'Amplitude vun elektronesche Schwéngungen eropgeet. , an doduerch erhéicht d'Frequenz.dat heescht: d'Wellelängt geet erof, eng blo Verréckelung geschitt.
Post Zäit: Aug-16-2023