Mir mussen elo ganz vertraut mam Zil sinn, elo ass den Zilmaart och eropgaang, folgend ass wat d'Haaptleistung vum Sputtering Zil ass, gedeelt vum Redakter vum RSM
D'Rengheet
Puritéit vum Zilmaterial ass ee vun den Haaptleistungsindexe, well d'Rengheet vum Zilmaterial e groussen Afloss op d'Leeschtung vum dënnen Film huet.Wéi och ëmmer, an der praktescher Uwendung sinn d'Rengheetsufuerderunge vun Zilmaterialien net déiselwecht.Zum Beispill, mat der rapider Entwécklung vun der Mikroelektronikindustrie, ass d'Silisiumchipgréisst vu 6 ", 8" op 12 " entwéckelt, an d'Verdrahtungsbreet gouf vun 0.5um op 0.25um, 0.18um oder souguer 0.13um reduzéiert.Virdrun kann d'Rengheet vun 99.995% Zilmaterial de Prozess Ufuerderunge vun 0.35umIC treffen.D'Rengheet vum Zilmaterial ass 99,999% oder souguer 99,9999% fir d'Virbereedung vun 0,18um Linnen.
Gëftstoff Inhalt
D'Gëftstoffer am Zilfest an de Sauerstoff a Waasserdamp an de Poren sinn d'Haaptverschmotzungsquellen vun der Filmdepositioun.Zilmaterialien fir verschidden Zwecker hunn verschidden Ufuerderunge fir verschidden Gëftstoffer.Zum Beispill, puren Aluminium an Aluminiumlegierungsziler, déi an der Hallefleitindustrie benotzt ginn, hu speziell Ufuerderunge fir den Inhalt vun Alkalimetaller a radioaktiven Elementer.
D'Dicht
Fir d'Porositéit am Zilfest ze reduzéieren an d'Performance vum Sputterfilm ze verbesseren, ass normalerweis eng héich Dicht vum Zil erfuerderlech.D'Dicht vum Zil beaflosst net nëmmen d'Sputterrate, awer och d'elektresch an optesch Eegeschafte vum Film.Wat méi héich d'Zieldicht ass, wat besser d'Filmleistung.Zousätzlech, d'Erhéijung vun der Dicht an d'Kraaft vum Zil mécht d'Zil besser den thermesche Stress am Sputterprozess ze widderstoen.Dicht ass och ee vun de Schlësselleistungsindexe vum Zil.
Korngréisst a Korngréisst Verdeelung
D'Zil ass normalerweis polykristallin mat Kärgréisst rangéiert vu Mikrometer bis Millimeter.Fir datselwecht Zil ass d'Sputterrate vum Zil mat klenge Käre méi séier wéi dee vum Zil mat grousse Kären.D'Dicke Verdeelung vun de Filmer, déi duerch Sputterziel deposéiert ginn, mat méi klengen Kärgréisstdifferenz (eenheetlech Verdeelung) ass méi eenheetlech.
Post Zäit: Aug-04-2022