Wëllkomm op eise Websäiten!

CoFeV Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert Made

Kobalt Eisen Vanadium

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie

Alloy Sputtering Zil

Chemesch Formel

FeCoV

Zesummesetzung

Kobalt Eisen Vanadium

Rengheet

99,9%, 99,95%, 99,99%

Form

Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach

Produktioun Prozess

Vakuum Schmelzen

Verfügbar Gréisst

L≤2000mm, W≤200mm


Produit Detailer

Produit Tags

Kobalt Eisen Vanadium Sputtering Zil huet 52% Inhalt vu Kobalt, 9% -23% Inhalt vu Vanadium an de Rescht - duktil permanent-magnetescht Material.Et weist exzellent plastesch Verformungskapazitéit a konnt a Komponente mat komplizéierte Formen fabrizéiert ginn.

Kobalt Eisen Vanadium Legierung Sputtering Zil huet extrem héich Sättigung Flux Dicht Bs (2.4T) a Curie Temperatur (980 ~ 1100 ℃).Et kann hëllefe mat Gewiichtreduktioun a kann Stabilitéit bei erhéigen Temperaturen verbesseren.Et ass e gëeegent Material fir Loftfaart elektresch Apparater (kleng speziell elektresch Maschinnen, Elektromagnet an elektresch Relais).Et huet och héije Sättigungsmagnetostriktiounskoeffizient, a konnt magnetostriktive Transducer produzéieren.

Rich Special Materials spezialiséiert op d'Fabrikatioun vu Sputtering Target a konnt Kobalt Eisen Vanadium Sputtering Materialien no Cliente Spezifikatioune produzéieren.Fir méi Informatiounen, weg Kontakt eis.


  • virdrun:
  • Nächste: