Wëllkomm op eise Websäiten!

CrAl Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film PVD Beschichtung Benotzerdefinéiert Made

Chrom Aluminium

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie

Alloy Sputtering Zil

Chemesch Formel

CrAl

Zesummesetzung

Chrom Aluminium

Rengheet

99,7%, 99,9%, 99,95%, 99,99%

Form

Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach

Produktioun Prozess

Vakuum Schmelzen, PM

Verfügbar Gréisst

L≤2000mm, W≤200mm


Produit Detailer

Produit Tags

D'Fabrikatioun vu Chrom Aluminium Sputtering Ziler ëmfaasst déi folgend Schrëtt:

1. Pulver Schleifen a Vermëschung.

2. Hot isostatesch Dréckbehandlung fir hallef fäerdeg Produkter ze kréien.

3. Machining vun der rauer Chrom Aluminiumlegierung Sputtering Zilmaterial fir de Chrom Aluminiumlegierung Sputtering Zilmaterial ze kréien.

Wärend dem Oflagerungsprozess vu CrAl Sputterziler gëtt eng hart Aluminium-Chrom-Nitrid (AlCrN) Beschichtung geformt.Dës Beschichtung weist héich Härtheet an Oxidatiounsbeständegkeet och bei héijer Temperatur.D'Cutters kéinte mat héije Feeds lafen fir d'Produktivitéit ze erhéijen an d'Qualitéit ze erhéijen wann Dir CNC Maschinnen benotzt.

Eis typesch AlCr Ziler an hir Eegeschaften

Cr-70 Albei%

Cr-60 Albei%

Cr-50 Albei%

Rengheet (%)

99.8/99.9/99.95

99.8/99.9/99.95

99.8/99.9/99.95

Dichtg/cm3

3.7

4.35

4,55

Greenen Gréisst(µm)

100/50

100/50

100/50

Prozess

HIP

HIP

HIP

Rich Special Materials spezialiséiert op d'Fabrikatioun vu Sputtering Target a konnten Aluminium Chrom Sputtering Materialien no de Spezifikatioune vun de Clienten produzéieren.Eis Produkter hunn exzellent mechanesch Eegeschaften, homogen Struktur, poléiert Uewerfläch ouni Segregatioun, Poren oder Rëss.Fir méi Informatiounen, weg Kontakt eis.


  • virdrun:
  • Nächste: