Wëllkomm op eise Websäiten!

CrAlW Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert Made

Chrom Aluminium Wolfram

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie

Alloy Sputtering Zil

Chemesch Formel

CrAlW

Zesummesetzung

Chrom Aluminium Wolfram

Rengheet

99,7%, 99,9%, 99,95%, 99,99%

Form

Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach

Produktioun Prozess

PM

Verfügbar Gréisst

L≤2000mm, W≤200mm


Produit Detailer

Produit Tags

Chrome Aluminium Wolfram Sputtering Zil gëtt duerch Pulvermetallurgie fabrizéiert fir héich Rengheet, homogen Mikrostruktur, héich Dicht an héich elektresch Konduktivitéit z'erreechen.

Chrom Aluminium Wolfram Legierung ass e perfekt Material fir Interconnects an Elektroden Industrien.Et huet glat Uewerfläch, héich Oflagerungsquote, Zähegkeet, dielektresch Kraaft, a kéint gutt mat dem Substratmaterial gemëscht ginn.

Rich Special Materials spezialiséiert op d'Fabrikatioun vu Sputtering Target a konnt Chronium Aluminium Tungsten Sputtering Materialien no Cliente Spezifikatioune produzéieren.Eis Produkter weisen héich Rengheet, homogen Struktur, héich Dicht ouni Segregatioun, Poren oder Rëss.Fir méi Informatiounen, weg Kontakt eis.


  • virdrun:
  • Nächste: