CuMn Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Kupfer Mangan Legierung Sputtering Zil gëtt duerch Vakuum Schmelzen fabrizéiert.Et huet homogen Mikrostruktur, héich Härtheet an Anti-Deformatiounseigenschaften, a laang Liewensdauer.Also et kéint hëllefe fir d'Fabrikatiounskäschte ze reduzéieren, well et onnéideg ass d'Sputterziler mat häufigen Intervalle ze ersetzen.

Kupfer Mangan Legierung kéint och benotzt ginn fir Mangan Messing a Cu-Ni-Mn Alliagen ze produzéieren.Mangan weist wesentlech zolidd Solubilitéit a Kupfer an ass en effektiven zolitte Léisungsverstäerkungsmëttel.Et kéint d'Häertheet an d'Kraaft bemierkenswäert verbesseren, an d'Korrosiounsbeständegkeetsverhalen am Marine, Chloridmedium a Dampdrock.

Kupfer ass e chemescht Element, deen aus dem alen englesche Numm Coper staamt, deen am Laténgesche "Cyprium aes" ofgeleet ass, dat heescht e Metal aus Zypern.Et gouf fréi am Joer 9000 BC benotzt an entdeckt vu Leit aus dem Mëttleren Osten."Cu" ass dat kanonescht chemescht Symbol vu Kupfer.Seng Atomnummer an der Periodesch Tabell vun den Elementer ass 29 mat Plaz an der Period 4 a Grupp 11, déi zum d-Block gehéiert.D'relativ Atommass vu Kupfer ass 63.546(3) Dalton, d'Zuel an de Klammern, déi d'Onsécherheet uginn.

Mangan ass e chemescht Element, deen aus Entweder dem laténgesche "magnes" kënnt, dat heescht Magnéit oder aus dem schwaarze Magnesiumoxid, "magnesia nigra".Et gouf fir d'éischt am Joer 1770 ernimmt a vum O. Bergman observéiert.D'Isolatioun gouf spéider erreecht an ugekënnegt vum G. Gahn."Mn" ass dat kanonescht chemescht Symbol vu Mangan.Seng Atomnummer an der Periodesch Tabell vun den Elementer ass 25 mat Plaz an der Period 4 a Grupp 7, gehéiert zum d-Block.D'relativ Atommass vu Mangan ass 54,938045(5) Dalton, d'Zuel an de Klammern, déi d'Onsécherheet uginn.

Eng breet Palette vu spezielle Materialien spezialiséiert op d'Fabrikatioun vu Sputterziler, kënne mir Kupfer- a Mangan-Sputtermaterialien op d'Spezifikatioune vum Client produzéieren.Fir méi Informatiounen, weg Kontakt eis.