Grousshandel NiV Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Fabrikant an Fournisseur |Richteg

Néckel Vanadium

NiV Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert Made Featured Image

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie	Alloy Sputtering Zil
Chemesch Formel	NiV
Zesummesetzung	Néckel Vanadium
Rengheet	99,9%, 99,95%, 99,99%
Form	Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach
Produktioun Prozess	Vakuum Schmelzen
Verfügbar Gréisst	L≤4000mm, W≤350mm

Schéckt E-Mail un eis

Produit Detailer

Produit Tags

Nickel Vanadium Sputtering Target Beschreiwung

Gold gëtt dacks an der Oflagerung vun der integréierter Circuitschicht applizéiert, awer AuSi niddereg Schmelzverbindung gëtt dacks geformt wann Gold mat Silizium kombinéiert gëtt, wat d'Loosheet tëscht verschiddene Schichten verursaacht.Pure Nickel ass eng gutt Wiel fir Klebstoffschicht, wärend eng Barriärschicht och tëscht der Nickel a Goldschicht erfuerderlech ass fir Verbreedung ze vermeiden.Vanadium konnt dës Ufuerderung perfekt erfëllen mat héije Schmelzpunkt a Kapazitéit vun enger héijer Ampere Dicht.Dofir sinn Nickel, Vanadium a Gold dräi Materialien déi normalerweis an der integréierter Circuitindustrie applizéiert ginn.Nickel Vanadium Sputtering Target gëtt hiergestallt andeems Vanadium a geschmollte Nickel bäigefüügt gëtt.Mat nidderegen Ferromagnetismus ass et e gudde Choix fir d'Magnetronsputtering vun elektronesche Produkter, déi Nickelschicht a Vanadiumschicht an enger Zäit produzéiere kënnen.

Ni-7V wt% Gëftstoffer Inhalt

Rengheet	Haaptkomponent(gew.%)	Gëftstoffer Chemikalien（≤ppm）							Onreinheet Am Ganzen(≤ppm)
	V	Fe	Al	Si	C	N	O	S
99,99	7± 0,5	20	30	20	100	30	100	20	100
99,95	7± 0,5	200	200	200	100	100	200	50	500
99,9	7± 0,5	300	300	300	100	100	200	50	500

Néckel Vanadium Sputtering Zil Verpakung

Eis Nickel Vanadium Sputter Zil ass kloer markéiert an extern markéiert fir effizient Identifikatioun a Qualitéitskontroll ze garantéieren.Grouss Suergfalt gëtt geholl fir Schued ze vermeiden, dee während der Lagerung oder Transport verursaacht ka ginn.

Kréien Kontakt

RSM's Nickel Vanadium Sputterziler si vun ultra-héicher Rengheet an Uniform.Si sinn a verschiddene Formen, Puritéiten, Gréissten a Präisser verfügbar.Mir spezialiséiert op d'Produktioun vun héich Rengheet Dënn Film Beschichtungsmaterialien mat exzellenter Leeschtung souwéi déi héchst méiglech Dicht a klengst méiglech Duerchschnëttskorngréissten fir d'Benotzung an der Schimmelbeschichtung, Dekoratioun, Autosdeeler, Low-E Glas, Hallefleit Integréiert Circuit, dënnem Film Resistenz, Grafik Display, Raumfaart, Magnéitesch Opnam, Touchscreen, dënn Film Solarbatterie an aner kierperlech Dampdepositioun (PVD) Uwendungen.Schéckt eis w.e.g. eng Ufro fir aktuell Präisser op Sputterziler an aner Oflagerungsmaterialien déi net opgelëscht sinn.

virdrun: WCu Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert gemaach

Nächste: NiCr Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made