Wolfram Silizid
Wolfram Silizid
Wolfram Silizid WSi2 gëtt als elektresche Schockmaterial an der Mikroelektronik benotzt, shunting op Polysilisiumdrähten, Anti-Oxidatiounsbeschichtung a Resistenzdrahtbeschichtung.Wolfram Silizid gëtt als Kontaktmaterial an der Mikroelektronik benotzt, mat enger Resistivitéit vu 60-80μΩcm.Et gëtt bei 1000°C geformt.Et gëtt normalerweis als Shunt fir Polysilisiumlinnen benotzt fir seng Konduktivitéit ze erhéijen an d'Signalgeschwindegkeet ze erhéijen.D'Wolfram Silizid Schicht kann duerch chemesch Dampdepositioun virbereet ginn, sou wéi Dampdepositioun.Benotzt Monosilan oder Dichlorsilan a Wolframhexafluorid als Rohmaterialgas.Den deponéierte Film ass net-stoichiometresch a erfuerdert d'Annealung fir an eng méi konduktiv stoichiometresch Form ze transforméieren.
Wolfram Silizid kann de fréiere Wolframfilm ersetzen.Wolfram Silizid gëtt och als Barriärschicht tëscht Silizium an aner Metaller benotzt.
Wolfram Silizid ass och ganz wäertvoll a mikroelektromechanesch Systemer, dorënner Wolfram Silizid gëtt haaptsächlech als dënnem Film fir Mikrokreesser benotzt.Fir dësen Zweck kann de Wolfram Silizidfilm mat Plasma-Ätzen, zum Beispill, Silizid.
| ITEM | Chemesch Zesummesetzung | |||||
| Element | W | C | P | Fe | S | Si |
| Inhalt (wt%) | 76,22 | 0,01 | 0,001 | 0.12 | 0,004 | Gläichgewiicht |
Rich Special Materials spezialiséiert op d'Fabrikatioun vu Sputtering Target a konnt Wolfram Silizid Sputtering Materialien no de Spezifikatioune vun de Clienten produzéieren.Fir méi Informatiounen, weg Kontakt eis.
