CrAlSi Alloy Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert gemaach

D'Fabrikatioun vu Chronium Aluminium Silicon Sputtering Targets ëmfaasst déi folgend Schrëtt:
1.Vakuum Schmelz vun Silicon, Aluminium a Chronium fir Schrëttlegierungen ze kréien.
2.Powder Schleifen a Vermëschung.
3.Hot isostatesch Dréckbehandlung fir de Chrom Aluminium Siliziumlegierung Sputterziel ze kréien.
Chronium Aluminium Silicon Sputtering Ziler ginn extensiv a Schneidinstrumenter a Schimmel benotzt, wéinst senger Verschleißbeständegkeet an héijer Temperaturoxidatiounsbeständegkeet fir d'Filmleistung ze verbesseren.
Eng amorph Si3N4 Phase géif während dem Prozess vu PVD vu CrAlSi Ziler geformt ginn.Wéinst der Inkorporatioun vun der amorpher Si3N4 Phase, konnt de Wuesstum vun der Kärgréisst behënnert ginn an d'Héichtemperaturoxidatiounsbeständegkeet verbesseren.