Grousshandel NiFe Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Fabrikant a Fournisseur |Richteg

Néckel Eisen

NiFe Sputtering Target High Purity Dënn Film Pvd Beschichtung Benotzerdefinéiert Made Featured Image

Kuerz Beschreiwung:

Kategorie	Alloy Sputtering Zil
Chemesch Formel	NiFe
Zesummesetzung	Néckel Eisen
Rengheet	99,9%, 99,95%, 99,99%
Form	Platen, Kolonn Ziler, Bogen Cathoden, Benotzerdefinéiert gemaach
Produktioun Prozess	Vakuum Schmelzen, PM
Verfügbar Gréisst	L≤2000mm, W≤300mm

Schéckt E-Mail un eis

Produit Detailer

Produit Tags

Video

Néckel Eisen Sputtering Target Beschreiwung

Nickel Iron Sputtering Target gëtt duerch Vakuum Schmelzen, Casting a PM hiergestallt.Et huet eng ganz héich magnetesch Permeabilitéit bei gerénger Feldstäerkt.
E Nickel Eisen Zil (Nickel> 30 wt%) weist d'Gesiicht-zentréiert kubesch Struktur bei Raumtemperatur.Konventionell Nickel Eisen Ziler hunn méi wéi 36% Zesummesetzung vum Nickel, a konnten a véier Kategorien opgedeelt ginn: 35%–40% Ni-Fe, 45%–50% Ni-Fe, 50%–65% Ni-Fe a 70% ～81% Ni-Fe.Jidderee kéint zu Material mat kreesfërmeg, rechtecklech oder flaache magnetesche Hysteresis Schleifen gemaach ginn.
Nickel Iron (Ni-Fe) Sputtering Ziler ginn an enger breeder Palette vun Uwendungen benotzt, zum Beispill magnetesche Späichermedien an EMI Schirmgeräter.

Néckel Eisen Sputtering Zil Verpakung

Eis Nickel Iron Sputter Zil ass kloer markéiert an extern markéiert fir effizient Identifikatioun a Qualitéitskontroll ze garantéieren.Grouss Suergfalt gëtt geholl fir Schued ze vermeiden, dee während der Lagerung oder Transport verursaacht ka ginn.

Kréien Kontakt

RSM's Nickel Iron Sputterziler si vun ultra héijer Rengheet an eenheetlech.Si sinn a verschiddene Formen, Puritéiten, Gréissten a Präisser verfügbar.Mir kéinten Puritéit 99,99% an eis typesch Kompositioune liwweren: Ni-Fe10at%, N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%.
Mir spezialiséiert op d'Produktioun vun héich Rengheet Dënn Film Beschichtungsmaterialien mat exzellenter Leeschtung souwéi déi héchst méiglech Dicht a klengst méiglech Duerchschnëttskorngréissten fir d'Benotzung an der Schimmelbeschichtung, Dekoratioun, Autosdeeler, Low-E Glas, Hallefleit Integréiert Circuit, dënnem Film Resistenz, Grafik Display, Raumfaart, Magnéitesch Opnam, Touchscreen, dënn Film Solarbatterie an aner kierperlech Dampdepositioun (PVD) Uwendungen.Schéckt eis w.e.g. eng Ufro fir aktuell Präisser op Sputterziler an aner Oflagerungsmaterialien déi net opgelëscht sinn.